252 : 81 : 2007/11/14(水) 02:26:11 ID:6WBbCAwv
>>84,88,89
回答ありがとうございます。
大学時代に齧ったことがある分野だったので興味を持った次第です。

>ＡＬＤはガスの分子を表面に吸着させ、反応させて成膜します。
>１回で１分子の膜厚ができます。この繰り返しで膜厚を制御します。
この技術が量産ラインに適用可能とは・・・。
HfO2を用いた基盤が商品化されるとなると、スループットの向上等の課題がクリアされたと言うことか。
科学技術の進歩は恐ろしいですな。

シリコンが半導体材料の主役の座を追われる日がやって来たのかな。

【政治経済】平成床屋談義　町の噂その39 * c
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